下一代光伏主流技能

下一代光伏主流技能

HDT异质结太阳能电池技能将成为将来光伏主流技能

26.33%
26.33%
天下记录
利用该技能转换服从已达
平价上彀
平价上彀
产品性价比高
继续低落终端利用本钱
配备加持
配备加持
GW级异质结产线
助推异质结财产化历程减速
HDT太阳电池技能特点

HDT太阳电池技能特点

HDT高效异质结太阳能电池(High Efficiency Hetero-junction Double-side Technology Solar Cells),使用PECVD在硅外表绒面构成后的N型单晶硅片正面堆积十分薄的本征硅钝化层和P型硅掺杂层,再在硅片的背外表堆积十分薄的本征硅钝化层和N型硅掺杂层,硅膜层堆积完成之后再使用PVD磁控溅射镀膜技能在电池的正反两面堆积通明氧化物导电薄膜(TCO)及金属叠层,最初使用金属成栅技能在电池的两面同时构成金属电极。

HDT太阳能电池技能上风

◎  高温制程:高温工艺流程,最高不凌驾220ºC,制程能耗少;

◎  异质结发射极:宽带隙致高短路电流-Isc及高开压Voc,利用此技能的电池片转换服从的天下记录已到达26.33%;

◎  高温度系数:电池片功率温度系数低于-0.268%/ºC,更适于低温情况发电;

◎  可柔性化使用:电池片的布局合适于利用超薄的硅片作为衬底,将来可完成真正的柔性化;

◎  双面发电:电池片双面吸光,适于制造双玻组件,可增长发电量凌驾10%以上。


HDT电池硅薄膜工艺研发

◎  HDT电池布局共包括四层硅薄膜,此中P型和N型硅掺杂层辨别作为电池的发射极和背电极场构建起电池外部电场,其厚度在5nm左右。在单晶硅片的正背面的本征硅层次要作用是钝化单晶硅表(注:单晶硅外表由于晶体长程有序布局毁坏,发生少量界面缺陷),增长少子寿命,增加少子在界面处的复合。

◎  HDT电池中的本征硅层其厚度在10nm以下,一样平常在5nm左右,而在传统的硅薄膜电池中,本征硅是作为电池的光吸取层,厚度一样平常在200nm~300nm之间,两者差异在50倍左右。因而,在硅薄膜电池中的光致阑珊效应在HDT太阳能电池中不必思索。

HDT电池服从提拔途径

◎  低落光学丧失(增加制绒面的反射/增加导电氧化物及非晶硅的吸取/进步栅线电极的高宽比);  

◎  增加外表少子复合速率(优化硅片的洗濯工艺/硅片外表的氢原子钝化/高质量的非晶硅薄膜的制备);

◎  增加串联电阻(进步导电氧化物的导电性/增加差别层之间的打仗电阻)


共同的硅外表处置技能

◎  利用不含IPA的制绒添加剂,进步了制绒的波动性,延伸了溶液的利用寿命;

◎  去除毁伤层的处置,完全消弭硅片外表的机器毁伤,并无效控制金字塔的尺寸及尺寸散布;

◎  开辟了共同的洗濯工艺流程,包管了钝化前硅片外表的干净度;

◎  自主研发了绒面的削尖处置办法,有利于硅薄膜在绒面上的匀称掩盖。


高电导金属成栅工艺

◎  九游会动力引入半导体集成电路技能观点,接纳特别设置装备摆设完成高电导金属栅线制成,并为客户提供最优工艺,到达设置装备摆设及运营本钱远低于高温银浆工艺。

◎  九游会动力高电导率质料是银浆电导率的10倍,构成的金属栅线易于焊接,线宽可控制在40µm以下。


自主研发波动高效的PECVD设置装备摆设

◎  九游会动力拥有自主知识产权的高端PECVD设置装备摆设,运转波动、产能高、一连批量化消费反复性好。

◎  PECVD设置装备摆设接纳共同的RF电极设计,辉光电极间隙可调,低功率起辉波动,载板温度匀称性好,堆积的薄膜厚度匀称。

◎  工艺窗口宽,低功率薄膜钝化后的晶体硅,其少子寿命可靠近其本征寿命。


自主研发成熟波动的高产出PVD设置装备摆设

◎  九游会动力自主开辟的旋转靶PVD双面堆积设置装备摆设,靶材使用率进步至80%,维护工夫增加40%,接纳共同的阴极靶座设计,溅射工艺波动性高反复性好,设置装备摆设稼动率高达90%以上。

◎  预热腔室和堆积腔室配有原位加热元件,TCO薄膜堆积温度可至200 ºC,堆积的薄膜厚度匀称性控制在5%内。


技能抢先战略

锁定有市场生命力的创新技能,以首创工艺专注新型高效电池;

凝结有环球影响力的技能团队,天下太阳能范畴威望专家领衔; 

中国泉州和日天职设研发中心,会聚环球顶级资源以继续投入; 

构建有技能含金量的专利系统,自主知识产权专利凌驾150项。


低本钱准绳

对准终端利用

以继续低落本钱为目的

高品格为条件

以技能开启平价上彀期间


以技能赢将来

 

在当今光伏使用市场远景越来越灼烁的大好期间配景下,只要拥有技能创新上风的企业才干真正问鼎天下,才干活着界范畴内站外行业的最岑岭。

 
以技能赢将来
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